台積電宣布65奈米獲得多家客戶試產訂單、聯電也獲得客戶青睞，中芯半導體也不遑多讓，昨（6）日宣布與新興設備廠朗明（Lumi-nescent）簽訂合作開發65奈米製程以下設備，以行動證明中芯執行長張汝京日前強調的「最快明年第四季65奈米試產」。 張汝京表示，美國政府已同意中芯自美國採購12吋廠、65奈米製程設備，中芯計劃在北京第二座12吋廠生產，明年第四季試產65奈米製程晶片。台積電日前宣布獲得多家客戶試產；若依據中芯的規劃，雙方試產時差僅相距一年。 中芯表示，與朗明共同開發的這套反向微影技術（Inverse Lithography Technolo-gy）設備稱為「探索者」（Explorer），足以讓中芯製程演進至65奈米以下，目前也已安裝於中芯的12吋廠。中芯邏輯技術發展中心副總陳一浸表示，這套設備將增加光刻解析度，並縮短光罩設計流程，提供更具成本優勢的製程方案。 晶圓代工業者從90奈米以下，技術難度愈高，需要與微影設備廠商密切合作。台積電最早提出的浸潤式（濕式）微影製程便與荷蘭設備商ASML共同開發設備，日前並採購ASML第二代機器，將製程進一步提升至45奈米；中芯也積極與設備商共同開發，顯見晶圓廠與設備商將更緊密合作。 外資美商高盛（Goldman）則認為，隨著TI、高通（Qualcomm）等陸續向聯電、台積電投單65奈米，65奈米進展似乎會如90奈米一樣的迅速發展，但也會面臨比過去更嚴重的價格競爭。