微影技術進入22奈米製程之後，面臨新的挑戰，光學微影技術再度扮演晶圓製造的關鍵角色。全球半導體大廠如英特爾、IBM、英飛凌、三星等大廠各自尋找最適合研發22奈米的微影方法，此時台積電計畫入主Mapper公司，似乎有意另闢技術，與各大半導體廠商較量一番。 由台積電微影製程資深處長林本堅發明的浸潤式顯影技術，堪稱半導體創舉，這項獨步全球的「水」技術，讓台積電主導了半導體設備規格，對於整個產業界來說，台積電的研發成果讓半導體業者只需用現有的奈米微影機設備，加一層水使光折射，即可讓電路線寬從65、45延伸到32奈米製程，一舉橫跨三個世代。正當其他半導體廠商苦於突破65奈米製程的發展極限，台積電已提前達陣。 台積電在第一回合的奈米製程技術競賽，打了一場漂亮的仗，但到了22奈米，技術趨勢重新出現不同的發展，再度考驗公司的研發實力。國際大廠也深知，掌握微影技術的主控權，形同在先進製程取得領導地位，以國際大廠英特爾、IBM而言，除了力拱深紫外線（EUV）技術，也找上荷商ASML配合，一起研發EUV顯影機台；英飛凌與三星雖屬IBM聯盟，但據外電報導，英飛凌與三星卻認為用EUV發展22奈米等先進製程，還需面臨很多技術挑戰，打算使用水以外的化學介質，配合現有顯影機台，發展22奈米顯影製程。 如果台積電入主荷蘭顯影設備商Mapper，就表示全力支援Mapper的技術發展。由此可見，台積電希望另闢蹊徑，企圖走出一條與其他國際大廠不同的路。