台積電近期推出0.11微米微縮版製程，獲得恩維迪亞（Nvidia）與冶天（ATi）兩大繪圖晶片廠商採用，雙方並透過台積電新製程降低成本，跨入PCI Express晶片組領域，使台積電下半年營運繼續成長。 台積電為協助客戶從0.13微米快速進入90奈米世代，第二季推出0.11微米過渡製程，技術是以0.13微米為基礎的微縮版，提供高效能及泛用型兩種製程，均採用氟矽玻璃（FSG）為其介電質，具有高速、低耗電的效能。 為掌握今年下半年企業換機潮的商機，恩維迪亞大舉轉回台積電下單，目前僅NV41繪圖晶片在IBM以0.13微米下單，新款的NV43則採用台積電0.11微米製程，在12吋晶圓廠投片，預計第三季末可以上市。 冶天也不甘示弱，將從本月開始轉入0.11微米製程，以保持目前繪圖晶片市場的領先地位。冶天產品中，R430、RV410及RV351等新的繪圖晶片，都採用台積電0.11微米投產。至於現行的R420及423，是採用台積電0.13微米低介電係數（Low-k）製程。 據了解，冶天目前在台積電每月下單量約達11萬片8吋當量，恩維迪亞第二季從IBM大量轉單回台積電後，也追上冶天的投片規模，兩家公司的製程競爭，是保住台積電下半年營收不墬的主因。 此外，冶天近期也積極尋找台灣晶片組設計公司，充當進軍PCI Express的夥伴，將大舉進軍晶片組市場，目前也在台積電開出相關製程，預計第三季將逐漸明朗。