由國科會研擬的「國家科技保護法草案」及「台灣地區特定高科技人員進入大陸地區任職許可辦法草案」，今天提送行政院審查；其中飽受爭議的人才管制辦法中，公告應受管制的產業別、技術別，從原本的五項縮減為一項，半導體晶圓廠製程核心黃光區內的微影研究設計人員需受到管制。 國科會原本規畫第一次公告管制的產業為半導體晶圓廠、半導體設計、航空、造船及麻醉藥品等五項，昨天確定縮小到只剩第一項，外界認為是受到中央研究院院長李遠哲在上周一公開反對國科會對高科技人才赴大陸進行管制的影響。但據國科會內部人員透露，李遠哲的談話有其影響，但上周二新竹科學園區管理局邀請園區同業公會、半導體產業協會及台積電、聯電等多家廠商舉行座談會，業界強烈主張縮小管制範圍以減少衝擊，才是國科會改變主意的主因。 立法院科技及資訊委員會昨天邀請國科會、經濟部等部會代表及李遠哲，討論「從政策規畫、預算統籌、研發能量、協同資源等觀點，如何有效整合、強化政府協調機制，積極推動未來科技整體發展之政策」。立委孫國華針對國科會仍堅持管制人才的作法，提出強烈批評。 魏哲和及國科會副主委黃文雄強調，兩岸人民關係條例原本規定任何人除獲得許可外，都不能去大陸，這項辦法是為高科技人才開一道門。 較少引起爭議的「國家科技保護法 」中，原本訂定不法取得營業機密的罰則為「兩年以下有期徒刑、拘役或科或併科新台幣一千萬元以下罰金」 ，黃文雄指出，由於法務部有不同意見，認為可以依竊盜罪最重五年以下有期徒刑執行即可，因此國科會在報給行政院時會兩案併陳，留待行政院決定。 立委李永萍認為，科技保護法主要是針對違法行為加重處罰；其實現行許多法律已經很完整，許多法條中都有相關規定，只要將現行法律補強、加重處罰即可，她質疑訂定科技保護法的必要性。行政院科技顧問組協同召集人蔡清彥回答，在對大陸積極開放的同時，還需更完整的配套措施。